EUV光刻的三大中心技能日本把握2项荷兰把握1项

发布日期：2023-12-06339    已浏览 作者: 海上风电工程

 

	  众所周知，现在芯片技能在2020年进入5nm后，本年现已正式全面从5nm进入了3nm，三星、台积电这两大巨子，现已完成了3nm芯片的量产，而苹果更是依托台积电，推出了3nm


	  微软雅黑, Microsoft YaHei;>


	  事实上，不需求进入3nm，只需进入5nm，便是芯片技能的一次严重晋级，由于在7nm及之前，是不需求EUV光刻体系的，但进入5nm，就一定要运用EUV光刻体系。


	


	  EUV光刻体系，可不仅仅一台EUV光刻机这么简略，需求全套设备、资料，都是EUV体系才行，缺一不可。


	  其间整个EUV光刻，就有三大中心技能，分别是EUV光刻机、EUV掩模和EUV光刻胶，这三项是分隔的，不是整合在一起的。


	


	  ASML把握的这一项，很简略，便是EUV光刻机，究竟现在全球也只要ASML能制作出EUV光刻机来，EUV光刻机是荷兰ASML的独家生意。


	  而日本把握了EUV掩膜、EUV光刻胶。关于EUV光刻胶，大多数人应该常常听说了，日本也是全球仅有可以出产的，和荷兰的EUV光刻机相同，拿下了全球100%的市场比例。


	


	  EUV掩膜是什么呢？EUV掩膜是什么呢？它是芯片进行光刻时的母板，制作芯片时，先要制作出掩膜，再用光线来照耀掩膜，终究将上面的电路上，刻到晶圆上。


	  但EUV掩膜，可不仅仅是一张膜板这么简略，是一整套体系，包含EUV 薄膜（Pellicle）等组成，其间EUV 薄膜是一种超薄薄膜形状的、需求定时替换的高端消耗品，用来维护掩膜板，十分有技能难度，也是整套EUV掩膜体系中的中心。


	  而半导体资料，但是日本的强项，所以日本的厂商在EUV 薄膜这方面最强，拿下了全球大部分比例。


	


	  当然，现在也有厂商，在研讨其它的技能各资料来代替EUV 薄膜，比方石墨烯EUV薄膜、碳纳米管EUV薄膜等，但至少现在还无法与日本的企业比美。


	  可见，要进入5nm，咱们要补的课还许多，还要霸占许多技能才行，先别欢腾，路得渐渐的一步步走。


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